PVD是物理气相沉积的简称。PVD涂层是指一种薄膜沉积技术，使固体材料在真空环境中溅射或者蒸发，作为纯材料或合金成分沉积在基底上形成涂层。
由于该方法将涂层材料作为单个原子或分子水平转移，因此它可以提供非常纯净和高性能的涂层，对于许多应用而言，这比所使用的其他方法更好。在每一个微芯片、半导体器件、耐用保护膜、光学透镜、太阳能电池板和许多医疗设备的核心，PVD涂层为终产品提供了关键的性能属性。无论涂层需要非常薄、纯净、耐用还是干净，PVD都能提供解决方案。它被广泛应用于各种行业，如光学应用，从眼镜到自清洁有色玻璃窗，太阳能光伏应用，计算机芯片、显示器和通信等设备应用，以及功能性或装饰性饰面，从耐用的硬保护膜到亮金、镀铂或者镀铬。两种常见的物理气相沉积涂层工艺是磁控溅射和热蒸发。磁控溅射是用高能电荷轰击被称为靶的涂层材料，使其“溅射”掉沉积在硅片或太阳能电池板等衬底上的原子或分子。热蒸发是指在高真空环境中将涂层材料提升至沸点，使蒸汽流在真空室中上升，然后在基底上冷凝。
是什么使PVD涂层具有很高的耐久性、耐腐蚀性和耐刮擦性？能够使用PVD在原子水平上应用涂层可以控制薄膜的结构、密度和化学计量。使用某些材料和工艺，我们可以开发出物理气相沉积薄膜的特定特性，如硬度、润滑性、附着力等。这些涂层可以减少摩擦并提供防止损坏的屏障。这些涂料的应用范围不断扩大。航空航天、汽车、国防、制造等领域，持久耐用至关重要。
这种物理气相沉积涂层还具有很高的耐变色性和耐腐蚀性，可用于各种颜色不褪色的装饰饰面。PVD镀金或镀铂能产生亮丽的表面，使手表具有很高的抗划伤性和抗刮擦性，而刮擦会导致弹性较差的过程磨损。氮化钛和类似的涂层提供了美丽的饰面，也非常耐腐蚀和磨损。这使其广泛应用于家庭用品，如门把手、管道固定装置和船用固定装置以及机械加工工具、刀具、钻头等。它生产的涂层具有优异的硬度、耐久性和耐磨性。PVD涂层安全吗？
物理气相沉积工艺是一种环境友好的“电镀”技术，与其他涉及流体和化学反应的“湿”工艺相比，必须使用、管理和处置的有*物质数量大大减少。由于物理气相沉积技术能够产生非常纯净、清洁和耐用的涂层，因此它是外科和医疗植入行业的首选技术。
如何使用PVD涂层？无论具体的应用过程是溅射还是热蒸发，这两种物理气相沉积过程基本上都是高真空技术，将源材料蒸发成原子或分子的等离子体，并将其沉积在广泛的衬底上。在一个压力接近10-2到10-6托（到毫巴）的高真空室中进行，这个过程通常发生在50到摄氏度之间。将要涂覆的物体固定在夹具中并放置在真空沉积室中。根据所用的涂层材料、基底和工艺要求，将腔室泵调至佳压力，待涂覆的物体通常预热并先进行等离子清洗。
常见的PVD涂层靶材是什么？将要溅射或蒸发的涂层材料被称为“目标”或“源材料”。PVD常用的材料有数百种。取决于终产品是什么，材料的范围从金属，合金，陶瓷，各种化合物和元素周期表中的任何东西。某些工艺需要独特的涂层，如碳化物、氮化物、硅化物和硼化物，以用于特殊应用。每一种都有针对特定性能要求而定制的特殊品质。例如，石墨和钛通常用于高性能航空航天和汽车部件，在这些部件中，摩擦和温度是关键的成功因素。为了获得厚度通常为几个原子或分子的均匀薄膜涂层厚度，要涂层的零件通常以均匀的速度旋转，或者放置在传送带上，传送带经过沉积材料的腔体内，可在同一沉积周期内涂覆单层或多层涂层。为什么PVD要用氩气？氩是一种惰性气体，这意味着它不能与其他原子或化合物发生化学结合。这保证了涂层材料在沉积到基底之前进入真空室的气相保持纯净。
此外，活性气体如氮气、氧气或乙炔可被引入真空沉积室，以产生化合物，从而在沉积时在涂层和基体之间形成非常牢固的结合。尽管薄膜沉积层的厚度可以是几埃到许多微米，但它们形成了一种极为粘附的涂层，在许多应用中表现良好，如装饰性涂层、电气和其他功能性涂层。应用是无限的！PVD涂层工艺应用非常广泛，从当今先进和前沿的半导体行业，再到集成电路、到太阳能电池板等等，在所有这些行业中，重要的是PVD涂层可以在没有有*残留物或副作用的情况下得以应用。